公司簡介：

　　廣州微納光刻材料科技有限公司創立于2020年，是廣東省內唯一一家專業開發90nm-55nm制程高端半導體芯片制造用193nm光刻膠及相關材料的高科技公司，為中芯國際、廣州粵芯公司等客戶定制光刻膠。
　　本公司的ArF國產光刻膠研發項目始于2016年，創始人首先在珠海橫琴創立的光刻膠樹脂公司自主研發，配方在上海、北京等地的客戶生產線的ASML光刻機上（90nm、65nm、55nm）進行了大量的評估，其ArF光刻膠的關鍵技術指標，如DOF等，已超過現有頭部梯隊商用產品，在國內處于領先地位。總部設立于廣州南沙區，并在珠海、上海設有研發中心和實驗室。

團隊簡介：

　　技術團隊以原英特爾出身的博士為核心，進行光刻膠材料研發；有和博士合作多年的日本資深光刻膠工藝技術專家，負責生產工藝和質量管控；兩位原中芯國際光刻部門的光刻專家負責曝光評估和市場策劃；核心成員在光刻膠材料開發和應用方面擁有豐富經驗；團隊中有資深財務和法務顧問，負責風險管理；運營模式按照國際光刻膠和半導體公司進行；公司已選定浙江嘉興與廣東新豐工廠兩座符合安全生產標準的工廠進行代工生產，嚴格按照SPC進行生產和質量管理。

產品介紹：

　　廣微納公司已經注冊“納刻”商標，形成了納刻系列的光刻膠產品。本公司光刻膠技術100%在本土研發，具有完全的自主知識產權。其中在ArF光刻膠系列，有性能優異的ArF干法光刻膠。經過中芯北京55 nm 節點產線評測，結果為DOF大于300 nm@ 81 nm L/S，優于現有商用ArF干法光刻膠。
原材料方面：公司對產品中使用的ArF感光樹脂和光敏劑的專利技術擁有使用權。所有光刻膠原材料由珠海公司專供，保證了排他性的競爭力。

專利介紹：

　　ArF光刻膠中國發明專利2項，覆蓋了90nm-55nm的線型光刻膠和孔洞型光刻膠的配方，于2021年3月取得了“一種能夠用于90~60nm半導體制程的ArF光刻膠及其制備方法于應用”專利授權，專利號ZL 201910388389.4

公司發展現狀及規劃：

　　廣微納公司現已具備一定資本規模和專利技術水平，實現ArF光刻膠的開發、國產替代，填補國內高端光刻膠材料產品的空白。目前，公司ArF光刻膠加侖樣品正提供客戶進行測試。 未來公司產品技術將為半導體客戶進行量身定制，以提高良率和拓寬工藝窗口為目的，為客戶提供高性能的光刻膠。