崗位職責(zé):
1.工藝執(zhí)行與優(yōu)化
協(xié)助制定并執(zhí)行超晶格二類紅外探測(cè)器芯片的清洗工藝方案;
參與清洗流程(如去膠、超聲清洗等)的日常操作與參數(shù)監(jiān)控;
記錄工藝數(shù)據(jù),分析清洗后芯片表面質(zhì)量(如粗糙度、潔凈度等),提出改進(jìn)建議。
2.設(shè)備維護(hù)與管理
負(fù)責(zé)清洗設(shè)備(如等離子清洗機(jī)等)的日常點(diǎn)檢、維護(hù)及故障初步排查;
協(xié)助編制設(shè)備操作規(guī)范和維護(hù)保養(yǎng)計(jì)劃。
3.質(zhì)量控制與問(wèn)題解決
配合質(zhì)量部門完成清洗工藝段的良率統(tǒng)計(jì)與異常分析;
協(xié)助處理清洗過(guò)程中的突發(fā)問(wèn)題(如殘留物超標(biāo)等)。
4.技術(shù)支持與協(xié)作
協(xié)助研發(fā)團(tuán)隊(duì)完成新工藝開(kāi)發(fā)及實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證;
跨部門協(xié)作,確保清洗工藝與前后工序(如光刻、鍍膜)的銜接順暢。
5.技能要求
熟悉半導(dǎo)體清洗工藝(如RCA清洗、干法/濕法清洗)及設(shè)備操作;
了解超晶格材料(如InAs/GaSb)特性及紅外探測(cè)器芯片制造流程;
能閱讀工藝文件(如SOP、PFMEA)及簡(jiǎn)單英文技術(shù)資料。
任職資格:
一、學(xué)歷與專業(yè):
1.本科及以上學(xué)歷,半導(dǎo)體材料、化學(xué)工程、微電子、材料科學(xué)等相關(guān)專業(yè)(應(yīng)屆生可投,需有半導(dǎo)體清洗或表面處理課程/項(xiàng)目基礎(chǔ));
2.大專/本科非應(yīng)屆生需有1-2年半導(dǎo)體清洗、晶圓清洗或精密材料清洗領(lǐng)域?qū)嵅俳?jīng)驗(yàn)。
二、專業(yè)技能:
1.熟悉半導(dǎo)體清洗工藝原理(如去膠清洗、干法清洗、兆聲波輔助清洗)及設(shè)備操作;
2.能獨(dú)立分析常見(jiàn)清洗問(wèn)題(如有機(jī)物殘留、靜電吸附污染)并提出解決方案;
3.熟練使用金相顯微鏡等工具進(jìn)行潔凈度檢測(cè)。
三、軟性素質(zhì):
1. 具備較強(qiáng)的問(wèn)題分析能力和執(zhí)行力;
2. 責(zé)任心強(qiáng),適應(yīng)潔凈室環(huán)境及倒班工作制;
3. 團(tuán)隊(duì)協(xié)作意識(shí)佳,能承擔(dān)重復(fù)性高精度作業(yè)。
四、經(jīng)驗(yàn)要求:
1.有紅外材料、光學(xué)元件或晶圓清洗經(jīng)驗(yàn)者優(yōu)先;
2.了解潔凈室管理規(guī)范或ISO 14644潔凈度標(biāo)準(zhǔn)者優(yōu)先。
崗位待遇:
1.入職即繳納社保及公積金;
2.雙休,節(jié)假日按照法定休息;
3.入職滿1年可享7天帶薪年假/年;
4.節(jié)假日福利禮包;
5.科研型企業(yè),氛圍良好。