崗位職責:
1.負責氮化鎵半導體樣品表面清洗,濕法刻蝕等制造工藝及日常維護,解決在線工藝問題;
2.氮化鎵表面清洗,濕法刻蝕工藝研發,開發新產品工藝,與其他工藝部門合作改善,提高產品成品率;
3.收集和記錄實驗數據,并進行分析,提交實驗報告和相關技術文檔;
4.負責編制相關工藝的技術規范.工藝文件及檢驗標準;
5.負責器件工藝的操作工培訓,對生產線進行技術指導;
6.協助部門主管對本部門的工藝線生產管理。
任職要求:
1.本科以上學歷,物理,化學,材料,光電子,微電子及相關專業;
2.一年以上半導體凈化室的工藝制造工作經驗,熟悉半導體器件制造相關工藝流程和原理;
3.掌握器件工藝流程,需具有設備操作和維護的相關經驗;
4.有氮化鎵GaN表面處理,背面過孔Via刻蝕經驗者優先;
5.具有高度的責任心.很強的團隊意識.創新意識,具有良好的抗壓能力.學習能力.溝通能力和表達能力;
6.誠實正直,善于思考,做事嚴謹,可接受適當加班。
職位福利:五險一金、餐補、帶薪年假、周末雙休