職位描述
CMP化學(xué)機(jī)械拋光
崗位職責(zé)：
1.進(jìn)行CMP工藝調(diào)試，工藝優(yōu)化，配合其它模塊工藝進(jìn)行流程改善；
2.cost down項(xiàng)目管控，提供可行性想法，進(jìn)行可行性數(shù)據(jù)驗(yàn)證及分析；
3.日常inline、offline數(shù)據(jù)監(jiān)控及分析，主動發(fā)現(xiàn)異常點(diǎn)，解決異?，F(xiàn)象；
4.聽從部門領(lǐng)導(dǎo)工作安排，對于產(chǎn)品問題，需要及時處理； 5.完成領(lǐng)導(dǎo)交辦的其他工作。
任職要求：
1.大專以上學(xué)歷，2年以上同崗位濾波器或IC行業(yè)經(jīng)驗(yàn)，對于CMP工藝制程熟悉，工藝參數(shù)了解深入；
2.對于CMP機(jī)臺構(gòu)造，機(jī)臺性能有一定理解，機(jī)臺出現(xiàn)異常需要給出工藝方面的判斷；
3.對于CMP耗材要精通，如拋光墊，slurry研磨液，Disk研磨盤等核心物料，要熟悉配件要求以及作用，并能調(diào)試出所需要的工藝參數(shù)；
4.對于CMP工藝的主要數(shù)據(jù)，必須能獨(dú)立分析，如均勻性，Dishing臺階，表面潔凈度等重要指標(biāo)，如出站異常必須及時解決，并輸出異常報(bào)告；
5.需要有成本管控意識，進(jìn)行成本項(xiàng)目輸出，減少生產(chǎn)成本，如優(yōu)化研磨液用量，增加耗材使用時長，調(diào)研市場內(nèi)二供物料能力等，并確定周期性項(xiàng)目報(bào)告。
注：優(yōu)先有研磨二氧化硅和硅基工作經(jīng)驗(yàn)
工作地點(diǎn)
源城區(qū)河源市艾佛光通科技有限公司
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河源市艾佛光通科技有限公司新時代、新機(jī)遇、新挑戰(zhàn)，第三代半導(dǎo)體是全球戰(zhàn)略競爭的制高點(diǎn)，是未來電子信息產(chǎn)業(yè)的基石，也是我國長期受到西方發(fā)達(dá)國家卡脖子的重大技術(shù)難題。以發(fā)展我國第三代半導(dǎo)體核心技術(shù)為使命的艾佛光通科技有限公司，擁有以國家科技創(chuàng)新領(lǐng)軍人才、國家長江學(xué)者、國家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃首席科學(xué)家等20多位博士為核心的國際一流科學(xué)家技術(shù)團(tuán)隊(duì)，歷經(jīng)10多年、投入近10億元的刻苦研發(fā)攻關(guān)，率先在第三代半導(dǎo)體的材料生長、芯片設(shè)計(jì)、制造工藝和關(guān)鍵裝備等方面上取得多項(xiàng)原創(chuàng)性技術(shù)突破，使我國成為繼美日之后，少數(shù)幾個全方位掌握第三代半導(dǎo)體技術(shù)的國家。艾佛光通開創(chuàng)了完全獨(dú)立自主的全鏈條Si基GaN、AlN等第三代半導(dǎo)體材料與芯片技術(shù)。艾佛光通所研發(fā)生產(chǎn)的多種芯片已在多個領(lǐng)域得到應(yīng)用。艾佛獨(dú)有技術(shù)獲得了包括國家技術(shù)發(fā)明二等獎、廣東省技術(shù)發(fā)明一等獎在內(nèi)的省部級以上科技獎勵8項(xiàng)。榮譽(yù)資質(zhì)獲得國家技術(shù)發(fā)明二等獎、廣東省技術(shù)發(fā)明一等獎等省部級以上科技獎勵8項(xiàng)已在國防上得到應(yīng)用，并于國際龍頭企業(yè)簽訂多項(xiàng)產(chǎn)品及技術(shù)開發(fā)合同獲得項(xiàng)目：國家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃、廣東省重大專項(xiàng)、廣東省揚(yáng)帆計(jì)劃等已獲發(fā)明專利100余件，國際PCT專利20余件，實(shí)審公開發(fā)明專利100余件
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